И это всё МОЁ

Фотоника, январь 2010

Для ликвидации технологического отставания необходимо создать собственные производства уровня 32–16 нм. И для этого в России появились реальные предпосылки. А научно-промышленные
центры России уже имеют солидный задел по EUV-литографии и плазменным процессам, созданы образцы технологического оборудования

Годы      Этапы                                  
2010–2017 Создание DUV-наносканеров на